Máscara fotográfica

Una máscara fotográfica es una placa opaca, con áreas transparentes que permiten que la luz se transmita en un patrón determinado.

Utilización

Las fotomáscaras se utilizan comúnmente en fotolitografía^[1], para la producción de circuitos integrados. Un conjunto de fotomáscaras, definiendo cada una de ellas una capa patrón, se introduce en un paso a paso de fotolitografía (o escáner), y se selecciona individualmente para la exposición.^[2] En las técnicas de modelado dobles, una fotomáscara correspondería a un subconjunto del patrón de capa.^[3]

Véase también

Referencias

↑ Benjamin Eynon; Banqiu Wu (21 de julio de 2005). Photomask Fabrication Technology. McGraw Hill Professional. ISBN 978-0-07-158891-1.
↑ Rizvi, Syed (2005). «1.3 The Technology History of Masks». Handbook of Photomask Manufacturing Technology. CRC Press. p. 728. ISBN 9781420028782.
↑ Lithography experts back higher magnification in photomasks to ease challenges // EETimes 2000

Enlaces externos

Datos: Q1319657

[EynonWu2005-1] Benjamin Eynon; Banqiu Wu (21 de julio de 2005). Photomask Fabrication Technology. McGraw Hill Professional. ISBN 978-0-07-158891-1.

[2] Rizvi, Syed (2005). «1.3 The Technology History of Masks». Handbook of Photomask Manufacturing Technology. CRC Press. p. 728. ISBN 9781420028782.

[3] Lithography experts back higher magnification in photomasks to ease challenges // EETimes 2000

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